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1000度高溫熱臺 紅外發(fā)射率測試 硅片退火爐主要用于在高溫下觀察和分析材料微觀結構的變化。這類設備能夠在控制的真空或氣氛環(huán)境中加熱樣品至高達1000度攝氏度，同時利用顯微鏡進行實時或實驗后的微觀結構觀察和分析。這種真空熱臺在材料科學和工程領域有著廣泛的應用
更新時間：2025-03-17
產品型號：KT-Z10002R
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超高溫1200℃真空測試腔 器件高溫測試系統(tǒng)主要用于在高溫下觀察和分析材料微觀結構的變化。這類設備能夠在控制的真空或氣氛環(huán)境中加熱樣品至高達1000度攝氏度，同時利用顯微鏡進行實時或實驗后的微觀結構觀察和分析。這種真空熱臺在材料科學和工程領域有著廣泛的應用
更新時間：2025-03-17產品型號：KT-Z10002R瀏覽量：561000度高溫熱臺 真空退火爐 快速升溫爐主要用于在高溫下觀察和分析材料微觀結構的變化。這類設備能夠在控制的真空或氣氛環(huán)境中加熱樣品至高達1000度攝氏度，同時利用顯微鏡進行實時或實驗后的微觀結構觀察和分析。這種真空熱臺在材料科學和工程領域有著廣泛的應用
更新時間：2025-03-14產品型號：KT-Z10002R瀏覽量：111
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